檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "sputter".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="氧化銅"
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此研究以反應式離子束濺鍍法於SiO2/Si基版及石英基板上沉積氧化銅/氧化亞銅薄膜,探討氬/氧流量及基板溫度對所沉積氧化銅/氧化亞銅薄膜之影響。研究結果顯示在300℃或400℃所沉積之氧化銅/氧化亞…
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本研究利用RF磁控濺鍍法在低沉積溫度下製備光電陰極及光電陽極之薄膜。 在光電陰極的部分本研究利用矽基板為基材,對其以磁控濺鍍法進行 In2O3 薄膜披覆,其主要目的是希望在酸性電解液中有優異的析氫能…